1200℃差溫蒸鍍沉積爐
該設備主要用于材料科學、物理、化學等領域的實驗研究。用于制備各種功能性薄膜和高性能材料。這些薄膜和材料在半導體、光電子、能源、生物醫(yī)學等領域都有重要應用。
該設備采用高純石英元件，具有出色的高溫穩(wěn)定性，能夠在高溫環(huán)境下長時間穩(wěn)定運行。采用先進的溫度控制系統(tǒng)和可編程程序控溫技術，可以精確控制每個溫區(qū)的溫度，確保實驗過程中的溫度穩(wěn)定性和精確性。且系統(tǒng)采用高效的CVD沉積技術，可以在短時間內(nèi)制備出高質(zhì)量的材料和薄膜。該設備還具有完善的安全保護功能，能夠有效地防止實驗過程中可能出現(xiàn)的意外情況。并且可以根據(jù)客戶需求進行擴展和升級，滿足不同領域的研究需求。
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